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发明名称 ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号 US4117340(A) 申请公布日期 1978.09.26
申请号 US19770801812 申请日期 1977.05.31
申请人 KENKYUSHO, RIKAGAKU 发明人 GOTO, EIICHI;SOUMA, TAKASHI;IDESAWA, MASANORI;TANAKA, KAZUMITSU
分类号 H01L21/027;H01J37/30;(IPC1-7):H01J37/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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