发明名称 PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 PURPOSE:In order to perform the accurate position adjustment with the mask, by means of attaching a microscopic mark on the surface to be treated through using a radiation source.
申请公布号 JPS5218176(A) 申请公布日期 1977.02.10
申请号 JP19750093875 申请日期 1975.08.01
申请人 FUJITSU LTD 发明人 OZAKI EIJI
分类号 H01L21/027;H01L21/302 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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