光罩基底及光罩

摘要

本发明揭露一种光罩基底及光罩，适用于平面显示器所使用的大型光罩的制程(阻剂涂布方法或蚀刻方法、清洗方法等)，包含：一适用于制造一平面显示器装置的光罩基底，其在一透光性基板上具有一遮光膜与具有调整透光量功能的一半透光膜中的至少其中之一于上述透光性基板上；其特征在于：上述遮光膜以及上述半透光膜的表面方均根粗糙度在2.0nm以下。