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发明名称
以酸性高分子材料之压印图案转移制程
摘要
本发明系为一以酸性高分子材料之压印图案转移制程,其利用包含酸性单体之数种单体共聚合反应合成高分子阻剂,将高分子阻剂涂布于基材上再行热压印制程,由于该高分子阻剂为酸性聚合物,可利用硷性水溶液轻易去除基板上的酸性聚合物残留液,而不需使用昂贵的乾式蚀刻,减少压印制程之去阻剂步骤时间及所需乾式蚀刻机器及相关耗材使用,降低成本。
申请公布号
TW200630751
申请公布日期
2006.09.01
申请号
TW094105715
申请日期
2005.02.25
申请人
国立成功大学
发明人
廖文昌;许联崇;洪敏雄;洪昭南
分类号
G03F7/039;G03F7/16
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
欧奉璋
主权项
地址
台南市东区大学路1号
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