- SUPERIMPOSITION OF RAPID PERIODIC AND EXTENSIVE POST MULTIPLE SUBSTRATE UV-OZONE CLEAN SEQUENCES FOR HIGH THROUGHPUT AND STABLE SUBSTRATE TO SUBSTRATE PERFORMANCE

摘要

기판 처리 챔버를 세정하기 위한 방법은 하나 이상의 처리 영역들을 한정하는 처리 챔버 내에서 한 묶음의 기판들을 처리하는 단계를 포함한다. 한 묶음의 기판들을 처리하는 단계는 처리 챔버 내에서 상기 묶음으로부터 하나의 기판을 처리하는 단계, 상기 처리 챔버로부터 상기 기판을 제거하는 단계, 상기 처리 챔버 내에 오존을 유입하는 단계, 및 상기 챔버를 1분 미만 동안 자외선 광에 노출하는 단계를 포함하는 다양한 서브-단계들을 갖는 서브-루틴에서 실행될 수 있다. 기판 묶음 처리 서브-단계들은 상기 묶음 내의 마지막 기판이 처리될 때까지 반복될 수 있다. 상기 묶음 내의 마지막 기판을 처리한 후에, 방법은 상기 처리 챔버로부터 마지막 기판을 제거하는 단계, 처리 챔버 내에 오존을 유입하는 단계, 및 처리 챔버를 3분 내지 15분 동안 자외선 광에 노출하는 단계를 포함한다.