真空处理装置中之氢原子产生来源及氢原子输送方法

摘要

本发明系提案可有效抑制氢原子与真空处理装置的处理室内壁表面，或输送路径内壁表面接触再结合而返回氢分子之真空处理装置之氢原子产生来源及氢原子输送方法。面向配置有包围氢原子产生手段之构件的该氢原子产生手段的空间的表面至少一部份被覆SiO2之真空处理装置之氢原子产生来源。由真空处理装置之氢原子产生手段所生成之氢原子输送至指定场所之方法，介由内壁表面被覆SiO2之输送路径输送该氢原子之真空处理装置之氢原子输送方法。