| 主权项 |
1﹒一种结合有对比改良装置并具有重叠之第一与第二间隙电极图型的非放射性平面显示面板,该等第一与第二图型条位于个别的第一与第二间隔相对之基体上,该等基体中之至少一个系呈透明状,并于该等基体间置有光电材料,该第一图型中之该等电极包括有多个间隔的分立电极部段且在与该第二图型中之该等电极重叠的各区域处界定出多数像元,该对比改良装置包含位于该第一基体上的多数阻断元件,压于该第二基体上之诸电极间的空间上方位于该第二基体上的多数阻断元件,压于该第一某体上之诸电极间的空间上方;以及位于该等第一与第二基体中之至少一个基体上的多数阻断元件,压于该第一基体上之诸电极部段间的空间上方;由是,经该等电极间之诸空间传导穿越该透明基体的光线便被确实阻断遮蔽。2﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,该等阻断元件为金属制,且其厚度介于300A至10000A间。3﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,该等阻断元件为金属制,且厚度约为600A。4﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,该等阻断元件为铬。5﹒如申请专利范围第4项所述之显示面板,其中所述之铬金属系经部份氧化。6﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,该等阻断元件为铝。7﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,每一阻断元件之宽度较之相对基体上之电极间间隙大5%至50%间。8﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,每一阻断元件之宽度较之相对基体上之电极间间隙大约大25%。9﹒如申请专利范围第1项所述之显示面板,其中,压于该等电极部段间之诸空间上的该等多数阻断元件当中的某些部分,系位于该等第一与第二基体中之每一者上。图示简单说明;之部份放大剖视等比率图;第2图为第1图中,该液晶显示面板上一较大部位之平面图;第3图为第2图中之液晶显示面板由标线3一3问之截切面图;第4图为第1图中之液晶显示面板上一单独像元及其周围像元部份构造之放大平面图,为本创作缺乏遮蔽阻断元件之图示;第5图为相似于第4图之液晶显示面板之部份构造平面图,但本图示为依据本创作实施例并合返蔽阻断元件;第6A及6B图为位于一分离的电极液晶显示面板中心线上之相对基体部份构造放大、图表式平面图,显示依据本创作实施例于靠近纵列分割线之电极及阻断元件之修正排列;第7图为第6A及第6B图上之基体放大平面图,组合形成一LCD面板之一部份;第8A及第8B图为位于一分离的电极液晶显示面板中心线上之相对基体的部份构造放大、图表式平面图,为依据本创作显示靠近纵列分割线相对基体上之电极及阻断元件的另一种变换排列态样;第9图为第8A及第8B图中之基体放大平面图,组合形成一LCD面板之一部份;第10图为用于位址第7图中面板之上层及下层部位之一列扫描方法的概要图示;第11图为用于定址第9图中面板之上层及下层部位之一列扫描方法的概要图示;第12图为用于定址第9图中面板之上层及下层部位之另一种扫描方法的概要图示。 |
