| 发明名称 |
FACE-TO-FACE EPITAXIAL DEPOSITION WHICH INCLUDES BAFFLING THE SOURCE AND SUBSTRATE MATERIALS AND THE INTERSPACE THEREBETWEEN FROM THE ENVIRONMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3493444(A) |
申请公布日期 |
1970.02.03 |
| 申请号 |
USD3493444 |
申请日期 |
1965.08.27 |
| 申请人 |
SIEMENS AG. |
发明人 |
ERHARD SIRTL;JULIUS NICKL |
| 分类号 |
C30B25/02;H01L21/00;(IPC1-7):H01L7/36 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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