发明名称 在透射电镜样品上制备小间距电极的方法
摘要 本发明公开了一种在透射电镜样品上制备小间距电极的方法,包括掩板的制备步骤和电极制备步骤以及电学测量步骤三部分;掩板制备步骤是将金属板材制成金属网状结构,利用光刻掩板将中空部分腐蚀去除得到;电学测量步骤,为利用两探针触压两相邻电极或者用导电胶将透射电镜薄膜通电样品杆专用导线粘接在两相邻电极上进行原位电学测量;其中电极制备步骤是利用网状掩膜的方法在透射电镜样品上制备多个电极,电极间距小于1μm。本发明提供了一种新的纳米线或薄膜的原位电学测试方法,具有性能可靠,安装方便,结构简单的特点,拓展了透射电镜的功能,并可以实现同一样品的多次电学测量,且每次测量之间互不影响。
申请公布号 CN101354416A 申请公布日期 2009.01.28
申请号 CN200810119690.7 申请日期 2008.09.05
申请人 北京工业大学 发明人 张泽;王珂;成岩;韩晓东
分类号 G01R31/00(2006.01) 主分类号 G01R31/00(2006.01)
代理机构 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人 张慧
主权项 1.一种在透射电镜样品上制备小间距电极的方法,包括掩板的制备步骤和电极制备步骤以及电学测量步骤三部分;所述掩板制备步骤,将金属板材制成金属网状结构,利用光刻掩板将中空部分腐蚀去除得到;所述电学测量步骤为:利用两探针触压两相邻电极或者用导电胶将透射电镜薄膜通电样品杆专用导线粘接在两相邻电极上进行原位电学测量;其特征在于:其中,所述的电极制备步骤为:利用网状掩膜的方法在透射电镜样品上制备多个电极,电极间距小于1μm。
地址 100124北京市朝阳区平乐园100号