发明名称 藉雷射光束方式标记物体表面之方法
摘要 本发明系描述一种将合成树脂物体涂覆一层在粘合剂中之染料母质和偶合剂,再经由UV雷射光或IR雷射光装饰或标记该物体之方法。所用母质由杂环单或双芳基磺醯基制成,而该偶合剂由例如、苯胺、唑或丙二制成,使于UV雷射光或IR雷私光照射后形成偶氮染料(XXX)。
申请公布号 TW249779 申请公布日期 1995.06.21
申请号 TW083101821 申请日期 1994.03.02
申请人 飞利浦电子股份有限公司 发明人 耶森.威斯特
分类号 B41M5/00 主分类号 B41M5/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种藉电射光束方式标记物体表面之方法,其中该表面涂有一层混合物层,该混合物包括至少一种粘合剂和一种染料母质,随后该涂层以雷射光束依所欲之标记照射,使该涂层经照射区域中之母质转化成染料;该方法之特征为使用杂环磺醯基 作为母质,且作为偶合剂之含活性氢原子之有机化合物亦加入该混合物中,以及形成偶氮染料作为染料。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中使用双磺醯基。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中所用双磺醯基为4,5-四亚甲基-3-甲基 唑或3-甲基苯并 唑之双甲苯磺醯基 。4.根据申请专利范围第2或3项之方法,其中使用红外雷射光。5.根据申请专利范围第2或3项之方法,其中使用紫外雷射光,且其中亦将二苯甲酮、4,4C^,C-二氯二苯甲酮或4,4C^,C-二氟二苯甲酮加入该涂层中。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中使用紫外雷射光和单磺醯基 ,且其中亦将二苯甲酮、4,4C^,C-二氯二苯甲酮或4,4C^,C-二氟二苯甲酮加入该涂层中。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中使用3-甲基苯并 唑或4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之单甲苯磺醯基作为单磺醯基 。8.根据上述申请专利范围中第1项之方法,其中使用聚合物为粘合剂。9.根据上述申请专利范围中第1项之方法,其中使用、苯胺、酚或活性亚甲基化合物作为偶合剂。10.根据上述申请专利范围中第1项之方法,其中所用该物体由合成树脂制成。图1显示数种 之杂环系统结构式,其适于作为形成偶氮染料之母质;图2显示数种偶合剂之结构式,其与 形成偶氮染料;图3A显示3-甲基苯并唑之双甲苯磺醯基 之结构式;图3B显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之双甲苯磺醯基 之构式;图4A显示3-甲基苯并 唑之单甲苯磺醯基 ;图4B显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之单甲苯磺醯基 ;图5显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之单甲苯磺醯基 和2-苯基之反应方程式,其形成紫色偶氮染料(XX)。图6显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之双甲苯磺醯基 和2-苯基 之反应方程式,其形成紫色偶氮染料(XX)。图7显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之双甲苯磺醯基 和3-甲基-1-苯基-2-唑 -5-酮之反应方程式,其形成橙色偶氮染料(XXX)。图8显示3-甲基-苯并唑之双甲苯磺醯基 和2-苯基 之反应方程式,形成红色偶氮染料(XL);图9显示4,5-四亚甲基-3-甲基 唑之双甲苯磺醯基 和丙二之反应方程式,形成黄
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