发明名称 |
氮化铝烧结体,半导体制造装置用组件及氮化铝烧结体之制造方法 |
摘要 |
〔课题〕提供在高温气氛下适合利用于静电夹头之基体材料之体积电阻率,且体积电阻率之温度依存性小之氮化铝烧结体。〔解决手段〕藉由形成在氮化铝(AlN)粒子1之粒界上连续形成体积电阻率之温度依存性低的(Sm, Ce)Al11O18粉末之导电路径2,使粒界相之体积电阻率之温度依存性小之同时,藉由使在AlN粒子1内之C与Mg之至少一方固溶,使导电路径2不会移行到AlN粒子1内,即使在高温气氛下,也可使AlN粒子1内之体积电阻率维持高值。 |
申请公布号 |
TW200736187 |
申请公布日期 |
2007.10.01 |
申请号 |
TW096108414 |
申请日期 |
2007.03.12 |
申请人 |
子股份有限公司 |
发明人 |
吉川润;小林义政;山田直仁 |
分类号 |
C04B35/583(2006.01);H01L21/683(2006.01);C04B35/64(2006.01) |
主分类号 |
C04B35/583(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |