| 主权项 |
1. 一种雷射标记方法,其包括施用雷射光至包含色彩成色剂及具有熔点200℃或更高之显色剂之雷射标记组成物之薄膜上,所说之薄膜存在于基础物件之表面上,且已完成热处理。2. 如申请专利范围第1项之雷射标记方法,其中色彩成色剂之熔点为150℃或更高,色彩显色剂之熔点为230℃或更高,且热处理温度为100-250℃。3. 如申请专利范围第2项之雷射标记方法,其中热处理温度为150-250℃。4. 如申请专利范围第1项之雷射标记方法,其中色彩成色剂之熔点为200℃或更高,色彩显色剂之熔点为260℃或更高,且热处理温度为150-250℃。5. 如申请专利范围第2项之雷射标记方法,其中热处理温度为180-230℃。6. 如申请专利范围第1项之雷射标记方法,其中色彩成色剂是2,2',6,6'-四甲基-4,4'-踑醯双酚,2,2',6,6'一四溴-4,4'-磺醯双酚或4-羟基异 酸。7. 如申请专利范围第1项之雷射标记方法,其中基础物件是由金属,合成树脂或纸所制成。8. 如申请专利范围第1项之雷射标记方法,其中雷射光是红外线雷射光。9. 一种雷射标记方法,其包括施用雷射光至其础物件之表面上之薄膜,所说之薄膜是由包含具有熔点200℃或更高之色彩成色剂,具有熔点260℃或更高之色彩显色剂及水之水性雷射标记组成物所组成,且已在150-250℃进行过热处理。10. .如申请专利范围第9项之雷射标记方法,其中色彩成色剂是2,2',6,6'-四甲基-4,4'-磺醯双酚,2,2',6,6'一四溴-4,4'-踬醯双酚或4-羟基异 酸。11. 如申请专利范围第9项之雷射标记方法,其中基础物件是金属罐。12. 如申请专利范围第9项之雷射标记方法,其中雷射光是远红外线雷射光。13. 一种水性雷射标记组成物,包括具有熔点200℃或更高之色彩成色剂,具有熔点260℃或更高之色彩显色剂及水。14. 一种物件,其表面上具有包含色彩成色剂及具有熔点200℃或更高之色彩显色剂之组成物之薄膜,所说之薄膜已经过热处理。15. 如申请专利范围第14项之物件,其中热处理之温度是150-250℃。16. 一种雷射标记方法,其包括施用雷射光至一雷射标记组成物薄膜,其雷射标记组成物包括色彩成色剂及具有熔点200℃或更高之色彩显色剂,所说之薄膜存在于基础物件之表面上,然后令此薄膜进行热处理。17. 如申请专利范围第16项之雷射标记方法,其中热处理 |
