发明名称 A PROCESS FOR CAPPING AN EXTREMELY LOW DIELECTRIC CONSTANT FILM AND A SUBSTRATE PRODUCED THEREFROM
摘要
申请公布号 KR100751990(B1) 申请公布日期 2007.08.28
申请号 KR20000061249 申请日期 2000.10.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/314;C23C16/30;C23C16/32;C23C16/40;C23C16/448;H01L21/312;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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