发明名称 Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems und reflexionsminderndes Schichtsystem
摘要 Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems auf einem Substrat (10) angegeben, umfassend die Schritte: – Abscheidung einer Brechzahlgradientenschicht (1) auf das Substrat (10) durch Ko-Verdampfung eines anorganischen Materials und eines organischen Materials, wobei die Brechzahlgradientenschicht (1) eine in Wachstumsrichtung abnehmende Brechzahl aufweist, – Abscheidung einer organischen Schicht (2) über der Brechzahlgradientenschicht (1), und – Erzeugung einer Nanostruktur (12) in der organischen Schicht (2) durch einen Plasmaätzprozess. Weiterhin wird ein auf diese Weise herstellbares reflexionsminderndes Schichtsystem beschrieben.
申请公布号 DE102015101135(A1) 申请公布日期 2016.07.28
申请号 DE201510101135 申请日期 2015.01.27
申请人 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 发明人 Schulz, Ulrike;Rickelt, Friedrich;Munzert, Peter;Heiße, Hanno;Knopf, Heiko;Füchsel, Kevin;Kaiser, Norbert
分类号 G02B1/111;G02B1/118 主分类号 G02B1/111
代理机构 代理人
主权项
地址