摘要 |
리소그래피에 사용되는 마스크 블랭크용 기판으로서, 상기 기판의 전사 패턴이 형성되는 측의 주 표면에 있어서의 1㎛×1㎛의 영역을, 원자간력 현미경으로 측정하여 얻어지는 베어링 에리어(%)와 베어링 깊이(㎚)의 관계에 있어서, 베어링 에리어 30%를 BA, 베어링 에리어 70%를 BA, 베어링 에리어 30% 및 70%에 대응하는 베어링 깊이를 각각 BD및 BD이라 정의했을 때에, 상기 기판의 주 표면이, (BA-BA)/(BD-BD)≥350(%/㎚)의 관계식을 만족하면서, 최대 높이(Rmax)≤1.2㎚로 한 구성으로 하고 있다. |