| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Lithographiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, mit einer Steuerungseinheit zur Steuerung des Lithographiesystems, mindestens zwei Mikrospiegelanordnungen zur Manipulation des Arbeitslichts des Lithographiesystems, mindestens einem Musterprozessor (35) zur Bestimmung von Musterparametern zur Einstellung eines Musters von Mikrospiegelstellungen einer Mikrospiegelanordnung, mindestens zwei Einzelmusterspeichern (40), die jeweils zur Speicherung von Musterparametern für eine Mikrospiegelanordnung (41) dienen, und mindestens einem Sammelmusterspeicher (38), der zur Speicherung vom Musterparametern für mehrere Einzelmusterspeicher dient, wobei eine erste elektronische Schaltung zur Übertragung der Musterparameter vom Musterprozessor zum Sammelmusterspeicher und eine zweite elektronische Schaltung zur Übertragung von Musterparametern vom Sammelmusterspeicher zu den Einzelmusterspeichern so ausgebildet sind, dass die zweite elektronische Schaltung gegenüber der ersten elektronischen Schaltung hinsichtlich der Übertragungsgeschwindigkeit gleich oder schneller und/oder hinsichtlich der Gleichmäßigkeit der Übertragung mit gleichen oder geringeren Schwankungen übertragen kann, sowie ein Verfahren zum Betrieb eines Lithographiesystems. |
