ＥＵＶ光学リソグラフィ装置用の放射源及び当該放射源を備えるリソグラフィ装置

摘要

放射源は極端紫外線放射を生成する。放射源は、燃料が放射ビームに接触してプラズマを形成することになる位置に位置付けられるプラズマ形成部位を含む。受け構造は、その表面上で、プラズマの形成により生成されるデブリ粒子を捕捉するために設けられる。受け構造は、受け面を加熱するためのロッド状のヒータ要素を有し、このデバイスは、大きな燃料の液滴が、受け面上に形成されるのを防止する。その代わりに、捕捉された燃料は受け面から溶け落ちる。【選択図】図４