主权项 |
1.一种天线阵列,其包含:(a)许多端射式单极天线元件,所有该等天线元件均有一主轴线平行于其他该等天线元件之主轴线;以及(b)供该等天线元件之许多间开之馈给元件,每一该等馈给元件耦合至并垂直于不同之次许多天线元件之每一天线元件,次许多天线元件之每一天线元件系在一不同之平面。2.根据申请专利范围第1项之天线阵列,其中每一该等天线元件之主轴线有一主要组件配置实际垂直于地面表面。3.根据申请专利范围第1项之天线阵列,其中该许多间开之馈给元件各配置在一至少部份直接在其他该等馈给元件之一上面或下面之平面。4.根据申请专利范围第2项之天线阵列,其中该许多间开之馈给元件各配置在一至少部份直接在其他该等馈给元件之一上面或下面之平面。5.根据申请专利范围第1项之天线阵列,其中该等馈给元件包括一微条或条状线之一耦合至该等天线元件,一电介质层在该微条或条状线之一上,及一地平面在该电介质层上面并与该微条或条状线间开。6.根据申请专利范围第2项之天线阵列,其中该等馈给元件包括一微条或条状线之一耦合至该等天线元件,一电介质层在该微条或条状线之一上,及一地平面在该电介质层上面并与该微条或条状线间开。7.根据申请专利范围第3项之天线阵列,其中该等馈给元件包括一微条或条状线之一耦合至该等天线元件,一电介质层在该微条或条状线之一上,及一地平面在该电介质层上面并与该微条或条状线间开。8.根据申请专利范围第4项之天线阵列,其中该等馈给元件包括一微条或条状线之一耦合至该等天线元件,一电介质层在该微条或条状线之一上,及一地平面在该电介质层上面并与该微条或条状线间开。9.一种天线阵列,其包含:(a)一外壳有一锥形端部份,(b)第一许多平行之端射式单极天线元件固着至在该外壳内之固着装置,该第一许多之每一天线元件在第一方向延伸;以及(c)第二许多平行之端射式单极天线元件固着至在该外壳内之固着装置,该第二许多之每一天线元件在第一方向延伸,该第一许多在第一方向与该第二许多间开。10.根据申请专利范围第9项之天线阵列,其中该外壳在至少预定之RF范围为可透过RF。11.根据申请专利范围第9项之天线阵列,另包括能量馈给装置耦合至该等天线元件,一电介质层配置在该能量馈给装置上面,及一地平面配置在该电介质层上面并与该能量馈给装置间开。12.根据申请专利范围第10项之天线阵列,乃包括能量馈给装置耦合至该等天线元件,一电介质层配置在该能量馈给装置上面,及一地平面配置在该电介质层上面并与该能量馈给装置间开。13.根据申请专利范围第9项之天线阵列,其中该锥形部份实际呈"V"形,一实际将该"V"二等分之线实际垂直于该第一方向。14.根据申请专利范围第10项之天线阵列,其中该锥形部份实际呈"V"形,一实际将该"V"二等分之线实际垂直于该第一方向。15.根据申请专利范围第11项之天线阵列,其中该锥形部份实际呈"V"形,一实际将该"V"二等分之线实际垂直于该第一方向。16.根据申请专利范围第12项之天线阵列,其中该锥形部份实际呈"V"形,一将该"V"二等分之线实际垂直于该第一方向。图式简单说明:第一图为本发明之天线阵列操作式定位之略图,第二图a为根据本发明之天线阵列之透视图,第二图b为沿第二图a之2b-2b线所取之剖面图,以及第三图为沿第二图b之3-3线所取之剖面图。 |