| 主权项 |
1.一种光学邻近校正光罩,适用于制作一彩色滤光 片,该彩色滤光片上具有一转移图案,该光学邻近 校正光罩包括: 一基板; 一光罩图案,配置于该基板上,该光罩图案与转移 至该彩色滤光片的该转移图案不匹配,使得该彩色 滤光片具有一漏光区域;以及 一修补图案,配置于与该漏光区域相对应的位置。 2.如申请专利范围第1项所述之光学邻近校正光罩, 其中该修补图案包括配置于该光罩图案边角上的 一饰线(serif),配置于该基板上的该光罩图案的周 边。 3.如申请专利范围第1项所述之光学邻近校正光罩, 其中该修补图案包括配置于该光罩图案内的一内 辅助线(internal assisted line),配置于该基板上的该光 罩图案的周边。 4.如申请专利范围第1项所述之光学邻近校正光罩, 其中该光罩图案的形状包括矩形。 5.如申请专利范围第1项所述之光学邻近校正光罩, 其中该基板的材质包括透明玻璃。 6.一种彩色滤光片的制造方法,适用于一基底上的 一显示区,包括: 于该基底上涂布一第一彩色光阻; 以一第一光罩进行一第一曝光制程,其中该第一光 罩包括: 一第一基板; 一第一光罩图案,配置于该第一基板上,该第一光 罩图案与转移至该第一彩色光阻的一第一转移图 案不匹配,使得该彩色滤光片具有一第一漏光区域 ;以及 一第一修补图案,配置于该第一基板上的该第一光 罩图案的周边,与该第一漏光区域的位置相对应; 进行一第一显影制程,以使该第一彩色光阻转为多 数个第一彩色滤光单元; 于该基底上涂布一第二彩色光阻; 以一第二光罩进行一第二曝光制程,其中该第二光 罩包括: 一第二基板; 一第二光罩图案,配置于该第二基板上,该第二光 罩图案与转移至该第二彩色光阻的一第二转移图 案不匹配,使得该彩色滤光片具有一第二漏光区域 ;以及 一第二修补图案,配置于该第二基板上的该第二光 罩图案的周边,与该第二漏光区域的位置相对应; 进行一第二显影制程,以使该第二彩色光阻转为多 数个第二彩色滤光单元; 于该基底上涂布一第三彩色光阻; 以一第三光罩进行一第三曝光制程,其中该第三光 罩包括: 一第三基板; 一第三光罩图案,配置于该第三基板上,该第三光 罩图案与转移至该第三彩色光阻的一第三转移图 案不匹配,使得该彩色滤光片具有一第三漏光区域 ;以及 一第三修补图案,配置于该第三基板上的该第三光 罩图案的周边,与该第三漏光区域的位置相对应; 以及 进行一第三显影制程,以使该第三彩色光阻转为多 数个第三彩色滤光单元。 7.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一、二、三修补图案分别包括配置 于该第一、二、三光罩图案边角上的一饰线。 8.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一、二、三修补图案分别包括配置 于该第一、二、三光罩图案内的一内辅助线。 9.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一光罩图案、该第二光罩图案与该 第三光罩图案的形状包括矩形。 10.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一彩色滤光单元、该第二彩色滤光 单元与该第三彩色滤光单元的排列方式为马赛克 型、条纹型、四画素配置型或三角型。 11.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一彩色光阻、该第二彩色光阻与该 第三彩色光阻分别为一红色光阻、一绿色光阻或 一蓝色光阻,且互为不同颜色的光阻。 12.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片的制 造方法,其中该红色光阻、该绿色光阻与该蓝色光 阻的材质包括负光阻。 13.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,于该基底上涂布该第一彩色光阻之前,更包 括于该基底上形成一黑矩阵。 14.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该基底包括薄膜电晶体阵列基板。 15.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该基底的材质包括透明玻璃。 16.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片的制造 方法,其中该第一基板、该第二基板与该第三基板 的材质包括透明玻璃。 图式简单说明: 图1为依照习知彩色滤光片所绘示的上视图。 图2为沿剖面线A-A'所绘示的剖面图。 图3为依照本发明一实施例所绘示之光学邻近校正 光罩的示意图。 图4为依照本发明另一实施例所绘示之光学邻近校 正光罩的示意图。 图5为依照本发明一实施例所绘示之光罩图案及其 转移图案的示意图。 图6为依照本发明一实施例所绘示之彩色滤光片的 上视图。 图7A~图7D为沿剖面线A-A'所绘示的制造流程剖面图 。 图8~图10分别为之依照本发明一较佳实施例之光罩 所绘示的上视图。 |
