| 主权项 |
1.一种提供持续释出二氧化氯之多层组合物,包括:具酸释出剂及非规聚丙烯、烃蜡、氯化蜡或聚乙烯蜡之疏水性层,该酸释出剂系选自包括羧酸、酯、酸酐、醯基卤化物、磷酸、磷酸酯、三甲基矽烷基磷酸酯、二烷基磷酸酯、磺酸、磺酸酯、磺酸氯化物或甘油基质酯之磷酸矽烷;及具亚氯酸根阴离子及醯胺、胺、甘油、乙、乙二醇或醇之亲水性层,该亲水性和疏水性层系邻接的及实质地无水,该亲水性层在酸释出剂水解时能释出二氧化氯。2.一种提供持续释出二氧化氯之多层组合物,包括:(a)一层,包括:具酸释出剂及非规聚丙烯、烃蜡、氯化蜡或聚乙烯蜡之疏水性层,该酸释出剂系选自包括羧酸、酯、酸酐、醯基卤化物、磷酸、磷酸酯、三甲基矽烷基磷酸酯、二烷基磷酸酯、磺酸、磺酸酯、磺酸氯化物或甘油基质酯之磷酸矽烷;及一层,包括具酸释出剂之疏水性相及具亚氯酸根阴离子及醯胺、胺、甘油、乙、乙二醇或醇之亲水性相,亲水性和疏水性相系内分散的及实质地无水;及(b)与该层之表面接触之水分调节层,以使穿透水分调节层之水分水解酸释出剂,以起始二氧化氯自多层组合物之释出。3.一种提供时间脉动释出二氧化氯之多层组合物,包括:至少一个具酸释出剂及非规聚丙烯、烃蜡、氯化蜡或聚乙烯蜡之疏水性层,该酸释出剂系选自包括羧酸、酯、酸酐、醯基卤化物、磷酸、磷酸酯、三甲基矽烷基磷酸酯、二烷基磷酸酯、磺酸、磺酸酯、磺酸氯化物或甘油基质酯之磷酸矽烷,至少一个具亚氯酸根阴离子及醯胺、胺、甘油、乙、乙二醇或醇之亲水性层,及至少三个阻绝层,以控制水扩散至疏水性层或由酸释出剂水解产生之氢离子扩散至亲水性层,在组合物中层之排列系由式C(ACB)nC所界定,其中C为封阻层,A为疏水性层,B为亲水性层及n为自1至10范围之整数,该阻绝层独立地包括磺酸化或磷酸化之寡烯或多烯多离子体、脂质取代之多羟基醇磷酸酯或磷酸矽酸酯或脂质取代之多羟基醇磷酸酯或磷酸矽酸酯与烯聚合物或寡体之混合物。4.根据申请专利范围第1项之组合物,其中亲水性层之表面和疏水性层之表面系接触的,及水解和二氧化氯释出发生在表面相接触后。5.根据申请专利范围第1项之组合物,进一步包括在亲水性层和疏水性层间之中间层,以控制水之扩散至疏水性层或自水解产生之氢离子扩散至亲水性层,因而控制二氧化氯释出之速率。6.根据申请专利范围第4项之组合物,进一步包括与第二个疏水性层表面接触之水分调节层,以控制水分摄入疏水性层之速率。7.根据申请专利范围第5项之组合物,进一步包括与疏水性层之表面接触之水分调节层,以控制水分摄入疏水性层之速率。8.根据申请专利范围第4项之组合物,进一步包括与第二个疏水性层表面接触之第一个水分调节层和与第二个亲水性层表面接触之第二个水分调节层,以控制水分摄入疏水性层之速率。9.根据申请专利范围第5项之组合物,进一步包括与疏水性层表面接触之第一个水分调节层和与亲水性层表面接触之第二个水分调节层,以控制水分摄入疏水性层之速率。10.根据申请专利范围第5项之组合物,其中亲水性层、疏水性层或中间层含延迟水解之无水盐或乾燥剂。11.根据申请专利范围第5项之组合物,其中中间层包括磺酸化或磷酸化之寡烯或多烯多离子体,脂质取代之多羟基醇磷酸酯或磷酸矽酸酯,或脂质取代之多羟基醇磷酸酯或磷酸矽酸酯与烯聚合物或寡体之混合物。12.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相之醯胺系选自一群包括甲醯胺、丙烯醯胺-异丙基丙烯醯胺、甲醯胺和丙烯醯胺-异丙基丙烯醯胺之共聚物及丙烯醯胺、异丙基丙烯醯胺或N,N-伸甲基工丙烯醯胺和初级胺或二级胺之共聚物。13.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相之醇系选自一群包括甲醇、乙醇、甲氧基乙醇或乙氧基乙醇。14.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相之胺系选自一群包括初级胺、二级胺、具成对氢键基之三级胺及溶于亲水性溶剂具非氢键成对基之三级胺。15.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相之胺系选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、1,3-二胺基丙烷或1,2-二胺基乙烷和N,N-伸甲基二丙烯醯胺之共聚物、4-二甲基胺基啶、四伸甲基乙二胺、N,N-二甲基胺基环己烷、1-(N-二丙基胺基)-2-羧基醯胺基乙烷和1-(N-二甲基胺基)-2-羧基醯胺基乙烷。16.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相包括亚氯酸亚铵。17.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中亲水性层或相包括具式R3-xNHx之胺;R1R2NCH2CH2C(O)NH2;溶化之N(CH2CH2OH)3-xHx,R3N(NCH2CH2C(O)NH2)2,(CH3)2N(CH2)zN(CH3)2,R5R6N(CH2)zNHC(O)NH2,N(CH2CH2NHC(O)NH2)3,其中:R取代基,独立地为-(CH2CH2O)yH,-C(CH3)2(CH2)zOH,-(CH2)2NH(CH2CH2O)zH,-CH(CH3)2,、烷基、环烷基、基、丙烯醯胺或啶基;R1.R2.R5和R6为烷基、R3为直链C6至C12烷基;R4为环烷基或基;m为1-100;n为2或3;x为0.1或2;y为1或3;及z为1-6。18.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中酸酐系选自一群包括有机酸酐、混合之有机酸酐、有机酸酐或混合无机酸酐之同聚物及有机酸酐或混合之无机酸酐与具双键单体之共聚物。19.根据申请专利范围第18项之组合物,其中混合之无机酸酐含磷-氧-矽键。20.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中酸酐为马来酸酐、甲基丙烯酸酐、乙酸酐、丙酸酐或琥珀酸酐与乙烯基、苯乙烯或烯之共聚物。21.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中酸释出剂为与聚丙烯、聚乙烯或聚苯乙烯调和或接枝至其上之酸酐或磷酸酯。22.根据申请专利范围第1.2或3项之组合物,其中三甲基矽烷基磷酸酯为(CH3)3SiOP(O)(OR)2,其中R为非氢键基、烷基或芳基。23.根据申请专利范围第2项之组合物,其中第二个层之表面系与第二个水分调节层接触。24.根据申请专利范围第2项之组合物,其中该层具在约0.2微米至约100微米间之相大小。25.根据申请专利范围第2项之组合物,其中该层含无水层或乾燥剂,以延迟水解。26.根据申请专利范围第3项之组合物,其中亲水性层、疏水性层或阻绝层含无水盐或乾燥剂,以延迟水解。图式简单说明:第一图为说明胺先质转变成亚氯酸亚铵之图式;第二图说明酸酐在疏水相中之水解及氢离子之迁移至亚氯酸亚铵,以释出二氧化氯气体;第三图a、第三图b和第三图c为提供持续释出二氧化氯之多层组合物之图式;第四图为一些粉末组合物之二氧化氯释出率之作图;第五图为层化组合物之二氧化氯释出率之作图;第六图为与大气温度和湿度有关之二氧化氯释出率之作图;第七图为层化组合物之二氧化氯释出率之作图;第八图和第九图为与大气温度和湿度有关之二氧化氯释出率之作图;第十图为最大二氧化氯浓度以自容器漏出之函数作图;及第十一图为二氧化氯浓度以时间函数之作图。 |
