曝光装置

摘要

本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。

主权项

一种曝光装置，是在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过该投影光学系统与该液浸区域的液体，对设定在基板上的多个照射区域依序曝光，其特征在于具备：液体供应机构，用以供应液体；第1液体回收机构，用以回收液体；第2液体回收机构，用以回收该第1液体回收机构未能完全回收的液体；检测装置，用以检测出该第2液体回收机构是否已回收液体；及记忆装置，使该检测装置的检测结果与该照射区域建立对应关系而予以记忆。