| 摘要 |
ＭＥＭＳデバイスは、共に密閉される第１の層（１）、第２の層（２）及び第３の層（３）を備える。第２の層（２）の可動構造体（７．１、７．２）は、第２の層（２）の開口部（８．１、８．２）によって画定される。第１の層（１）に、第２の層（２）の可動構造体（７．１、７．２）に対する開口部を有する少なくとも１つの第１の層のキャビティ（６．１、６．２）がある。第３の層（３）に、第２の層（２）の可動構造体（７．１、７．２）に対する開口部を有する少なくとも１つの第３の層のキャビティ（９）がある。従って、第３の層のキャビティ（９）及び第２の層（２）は、ＭＥＭＳデバイス内に空間を画定し、ゲッター層（１０．１、１０．２）が前記空間の表面に配置される。ゲッター層（１０．１、１０．２）は、好ましくは第２の層（２）の表面に配置され、特に、ゲッター層（１０．１、１０．２）は、第２の層（２）の固定部に配置される。あるいは、ＭＥＭＳデバイスは、少なくとも２つのリセス（２５．１、２．２、２５．３）を有する第３の層のキャビティ（２４）を有し、ゲッター層（２６．１、２６．２、２６．３）は、リセス（２５．１、２５．２、２５．３）の表面に配置される。 |
