| 主权项 |
1.一种防反射膜,其系经由涂布在一有透光性质的基材之表面上而形成者,且其包括一在该基材表面上形成的底层与一在该底层的上侧之上形成的表面层,其中:该底层具有一50至200毫微米的厚度;且该表面层系由下面式(I)所表的矽烷化合物之可水解产物:Rn-Si(X)4-n -----(I)其中R为经取代或未经取代的烷基或经取代或未经取代的烯基,X为可水解基,且n为1或2之数,及一金属螯形化合物和二氧化矽溶胶所形成者,且具有50至200毫微米之厚度。2.如申请专利范围第1项之防反射膜,其中在该表面层中的二氧化矽溶胶之折射率为1.29~1.44。3.如申请专利范围第2项之防反射膜,其中在该低折射率层中的二氧化矽溶胶具有一内部腔及5至200毫微米之粒径。4.如申请专利范围第1项之防反射膜,其中在该金属螯形化合物为含有二配位基的钛、锆、铝、锡、铌、钽、或铅之化合物。5.如申请专利范围第1项之防反射膜,其中在该表面层之折射率为1.29~1.44,且该底层具有大于该表面层所具者之折射率。6.如申请专利范围第1项之防反射膜,其中在该底层与该表面层之间装有一有50至200毫微米的厚度之中间层。7.如申请专利范围第6项之防反射膜,其中该中间层之折射率大于该表面层之折射率,且该底层具有一在该表面层与该中间层所具折射率之中间的折射率。8.如申请专利范围第7项之防反射膜,其中该表面层之折射率为1.29 ~ 1.44,且该中间层之折射率为1.75 ~2.30。9.如申请专利范围第6项之防反射膜,其中该中间层含有金属烷氧化物、矽烷偶合剂的水解产物和二氧化矽溶胶。10.如申请专利范围第7项之防反射膜,其中该细微粒子具有50至1000毫微米之平均粒径,且系经分散在该表面层与该底层之内者。11.如申请专利范围第10项之防反射膜,其中该细微粒子为二氧化矽溶胶粒子。12.如申请专利范围第6项之防反射膜,其中该中间层含有二氧化钛成分,且该底层实质地不含有机树脂成分。13.如申请专利范围第12项之防反射膜,其中该底层含有矽烷偶合剂的水解产物作为黏合剂。图式简单说明:图1为阐示根据本发明具有三层构造的防反射膜所具截面构造之断面图;图2为阐示出根据本发明具有二层构造的防反射膜所具截面构造之断面图;图3为阐示出透过实施例2防反射膜的总透光因数分布之图解;且图4为阐示出透过实施例2防反射膜的反射因数分布之图解。 |
