发明名称 | 连续量产式真空烧结装置 | ||
摘要 | 一种连续量产式真空烧结装置,包括输送单元、及利用该输送单元传送的多个真空烧结系统,每一真空烧结系统包括烧结炉、及电连接至该烧结炉的真空控制单元与温度控制单元。其中,上述多个真空烧结系统分别对应多个状态控制阶段;每一阶段间隔一预定时间;每一真空烧结系统各自独立,且每一真空烧结系统的压力与温度状态均不互相影响。通过每一真空烧结系统在输送单元上具有不同程度的烧结状态,以便监控产品的烧结进度与产量。 | ||
申请公布号 | CN2705989Y | 申请公布日期 | 2005.06.22 |
申请号 | CN200420051173.8 | 申请日期 | 2004.05.20 |
申请人 | 东元奈米应材股份有限公司 | 发明人 | 萧俊彦;李裕安;蔡金龙;郑奎文 |
分类号 | H05B33/10;H05B33/04 | 主分类号 | H05B33/10 |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;王玉双 |
主权项 | 1、一种连续量产式真空烧结装置,其特征在于包括:输送单元;及利用该输送单元传送的多个真空烧结系统,每一真空烧结系统包括烧结炉、及电连接至该烧结炉的真空控制单元与温度控制单元。 | ||
地址 | 台湾省台北市 |