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发明名称
选择空白光罩基材的方法
摘要
在成对的条状区在延着光罩图型要形成于上之基材的上表面之外周围的成对的相对立侧边之每一侧内延伸2mm至10 mm,但排除其长度方向上每一端处2mm边缘部份之条件下,以水平及垂直方向上0.05至0.35 mm之间隔,量测从用于基材上表面上的条状区之最小平方平面至条状区之高度,以及,选取所有量测点中最大与最小高度之间的差不大于0.5μm之基材。
申请公布号
TW200510919
申请公布日期
2005.03.16
申请号
TW093121636
申请日期
2004.07.20
申请人
信越化学工业股份有限公司;东芝股份有限公司;尼康股份有限公司
发明人
中津正幸;沼波恒夫;茂木均之;伊藤正光;萩原恒幸;近藤尚人
分类号
G03F1/08
主分类号
G03F1/08
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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