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发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR AN IMPROVED UPPER ELECTRODE PLATE IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号
KR100753704(B1)
申请公布日期
2007.08.30
申请号
KR20057005446
申请日期
2005.03.29
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;H01J37/32
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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