发明名称 投影光学系统、曝光设备及装置制造方法
摘要 此发明为一种投影光学系统,包括复数个透镜群组,且将第一物体的影像投影至第二物体上。该复数个透镜群组之位于最接近第二物体的底部透镜群组系由具有1.6或更大之折射率的等向性结晶材料所制成,且具有正焦距。底部透镜群组之位于第一物体侧的表面之曲率半径R(mm)及底部透镜群组的中心厚度d(mm)满足3.0>R/d>1.6及d<60。
申请公布号 TW200925792 申请公布日期 2009.06.16
申请号 TW097133921 申请日期 2008.09.04
申请人 佳能股份有限公司 发明人 大阪昇
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/18(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本