| 发明名称 |
Use of rotatable substrate supporting mechanism with temperature sensing device in chemical vapor deposition equipment |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0592017(B1) |
申请公布日期 |
2001.09.12 |
| 申请号 |
EP19930120537 |
申请日期 |
1988.03.30 |
| 申请人 |
ASM AMERICA, INC. |
发明人 |
DE BOER, WIEBE;OZIAS, ALBERT E. |
| 分类号 |
C23C16/44;B05C11/08;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/68;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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