| 发明名称 |
Photosensitive polyimide composition |
| 摘要 |
본 발명은 폴리이미드; 감광성 산 발생제; 에폭시기를 갖는 경화제 및 아민계 화합물을 포함하는 포함하는 감광성 폴리이미드 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 폴리이미드 조성물에 따르면, 낮은 테이퍼 앵글의 패턴을 형성할 수 있고 내화학성이 우수한 폴리이미드 절연막 패턴을 제공할 수 있다. |
| 申请公布号 |
KR20160149040(A) |
申请公布日期 |
2016.12.27 |
| 申请号 |
KR20150085999 |
申请日期 |
2015.06.17 |
| 申请人 |
주식회사 엘지화학 |
发明人 |
남규현;박찬효;김경준;김상우;임미라 |
| 分类号 |
G03F7/038;C08G73/10;H01L51/50 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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