| 发明名称 | 化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒及其应用。本发明的目的在于提供一种化学机械研磨用水系分散体的制备方法、以及即使是在浓缩状态下长期保存稳定性也优异的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，所述化学机械研磨用水系分散体在利用化学机械研磨的被研磨面的平坦化工序中能够抑制凹陷、磨蚀、划痕乃至磨齿等表面缺陷。本发明的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，具备第1组合物和第2组合物，所述第1组合物包含平均一次粒径为15nm～40nm的胶态二氧化硅和碱性化合物、且pH为8～11，所述第2组合物包含聚(甲基)丙烯酸和除其以外的具有2个以上羰基的有机酸、且pH为1～5。 | ||
| 申请公布号 | CN101328399A | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200810126648.8 | 申请日期 | 2008.06.17 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 国谷英一郎;仕田裕贵;内仓和一 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蒋亭;苗堃 |
| 主权项 | 1.化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其特征在于，具备第1组合物和第2组合物，所述第1组合物包含平均一次粒径为15nm～40nm的胶态二氧化硅和碱性化合物、且pH为8～11，所述第2组合物包含聚(甲基)丙烯酸和除其以外的具有2个以上羰基的有机酸、且pH为1～5。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||