发明名称 Integrierter Schaltkreis und Verfahren zum Herstellen einer Kontaktanordnung und einer Verbindungsanordnung
摘要 Eine Kontaktanordnung wird hergestellt durch Bereitstellen eines Substrats (200), das erste Gebiete (201), die entlang einer Zeileneinrichtung angeordnet sind, sowie ein zweites Gebiet (202) aufweist. Eine Zwischenschicht (300) wird bereitgestellt, welche die ersten Gebiete (201) und das zweite Gebiet (202) bedeckt. Es wird eine vergrabene Maske (405) einschließlich einer ersten Abgleichöffnung (412) über den ersten Gebieten (201) bereitgestellt. Ebenso wird eine obere Maske (500) einschließlich erster Vorlageöffnungen (512) bereitgestellt, wobei jede erste Vorlageöffnung (512) über einem der ersten Gebiete (201) positioniert ist. Eine zweite Vorlageöffnung (514) wird über dem zweiten Gebiet (202) bereitgestellt. Das Füllmaterial (416) und die Zwischenschicht (300) werden zur Ausbildung von Kontaktgräben über den ersten Gebieten (201) sowie dem zweiten Gebiet (202) geätzt. Es werden Ketten gleichmäßig beabstandeter Kontakte, die hinsichtlich der Substratfläche effizient gestaltet sind, bereitgestellt.
申请公布号 DE102007016288(A1) 申请公布日期 2008.09.25
申请号 DE20071016288 申请日期 2007.04.04
申请人 QIMONDA AG 发明人 BACH, LARS
分类号 H01L21/768;H01L23/52;H01L27/06 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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