摘要 |
Eine Kontaktanordnung wird hergestellt durch Bereitstellen eines Substrats (200), das erste Gebiete (201), die entlang einer Zeileneinrichtung angeordnet sind, sowie ein zweites Gebiet (202) aufweist. Eine Zwischenschicht (300) wird bereitgestellt, welche die ersten Gebiete (201) und das zweite Gebiet (202) bedeckt. Es wird eine vergrabene Maske (405) einschließlich einer ersten Abgleichöffnung (412) über den ersten Gebieten (201) bereitgestellt. Ebenso wird eine obere Maske (500) einschließlich erster Vorlageöffnungen (512) bereitgestellt, wobei jede erste Vorlageöffnung (512) über einem der ersten Gebiete (201) positioniert ist. Eine zweite Vorlageöffnung (514) wird über dem zweiten Gebiet (202) bereitgestellt. Das Füllmaterial (416) und die Zwischenschicht (300) werden zur Ausbildung von Kontaktgräben über den ersten Gebieten (201) sowie dem zweiten Gebiet (202) geätzt. Es werden Ketten gleichmäßig beabstandeter Kontakte, die hinsichtlich der Substratfläche effizient gestaltet sind, bereitgestellt.
|