发明名称 平台装置、成膜装置、光学元件、半导体元件及电子机器
摘要 本发明系关于一种平台装置,其系将基板(100)吸住保持之平台装置(40),其具备有:具有由多孔体所形成之基板吸住面的吸住部(43);及配置在上述吸住部之上述基板吸住面上且接地之导电膜(44)。
申请公布号 TWI262573 申请公布日期 2006.09.21
申请号 TW093109373 申请日期 2004.04.05
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 渡边信子
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种平台装置,其系将基板吸住保持之平台装置,其特征为:其具备有:具有由多孔体所形成之基板吸住面的吸住部;及配置在上述吸住部之上述基板吸住面上且接地之导电膜。2.如申请专利范围第1项之平台装置,其中上述基板为具有可挠性之基板。3.如申请专利范围第1项之平台装置,其中上述吸住部系为陶瓷多孔体。4.一种成膜装置,其系在具有可挠性之基板上将液状材料吐出,而在基板上形成薄膜之成膜装置,其特征为:其具备有:申请专利范围第1项至申请专利范围第3项中任一项所记载之平台装置;将上述液状材料朝向上述基板吐出之喷墨式头部;将上述喷墨式头部覆盖且接地之带电防止用盖;及将上述平台装置与上述喷墨式头部做相对移动之移动装置。5.如申请专利范围第4项所记载之成膜装置,其中上述带电防止用盖具备有将上述喷墨式头部之中对向于上述基板的面露出之开口部。6.一种电气光学装置,其特征为具备有由申请专利范围第4项所记载之成膜装置所形成的发光层。7.一种电子机器,其特征为具备有申请专利范围第6项所记载之电气光学装置。图式简单说明:第1图系成膜装置之构成图。第2图系喷墨式头部部之分解立体图。第3图系喷墨式头部部之关键部的立体图一部分之剖面图。第4图系显示喷墨式头部部及吸住平台之除去静电方法之图。第5A-5C图系显示发光材料之吐出及成膜工程之图。第6图系显示电气光学装置之图。第7图系显示电子装置之图。
地址 日本