| 发明名称 |
Method of improving an x-ray lithography beamline uniformity |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5204886(A) |
申请公布日期 |
1993.04.20 |
| 申请号 |
US19910804867 |
申请日期 |
1991.12.06 |
| 申请人 |
HUGHES DANBURY OPTICAL SYSTEMS, INC. |
发明人 |
DUGDALE, GEORGE W. |
| 分类号 |
G03F1/16;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03F1/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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