用于先进前段制程的群集设备

摘要

本发明态样大体来说提供一种使用多腔室制程系统来处理基材的设备及方法，其适于处理基材并分析在基材上执行的制程结果。在本发明一态样中，使用一或多个分析步骤及／或预清洁步骤来降低等候时间对元件良率的影响。在本发明一态样中，使用一系统控制器及一或多个分析腔室来监视及控制一处理腔室配方及／或制程程序，以减少因为已完成元件上的缺陷而造成基材报废以及元件效能差异性等问题。本发明实施例大体上也提供数种可重复且可靠地形成用于各种应用中之半导体元件的方法和系统。