发明名称 | 可控靶冷却 | ||
摘要 | 本发明公开了一种溅射靶组件(18,20),对于较大面板的等离子体溅射反应器特别有用。该反应器具有密封到主处理室(14)和真空泵吸室(32)两者的靶组件,真空泵吸室容纳移动的磁控管(30)。靶瓦接合到其的靶组件包括一体板(62),其具有平行于主表面钻出的平行冷却孔(64)。孔的端部可以被密封(74),且竖直延伸的槽(66、68、70、72)在每侧上布置为两个交错的群组,并成对地向下机械加工到在衬背板的相对侧上的各自的冷却孔对。四个歧管(104、106)密封到四个群组的槽,并提供了逆流的冷却剂路径。 | ||
申请公布号 | CN1904131A | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
申请号 | CN200610099294.3 | 申请日期 | 2006.07.27 |
申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 棚濑义昭;稻川真;细川明广 |
分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
主权项 | 1.一种溅射靶,包括:衬背板,所述衬背板包括形成在其中的多个横向延伸的、平行的、圆筒形冷却孔;和一个或多个溅射靶瓦,其接合到所述衬背板的两个主表面之一。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |