发明名称 | 一种镜面全反射型弯曲波导器件结构及制作方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种镜面全反射型弯曲波导器件结构及制作方法,特征在于以绝缘层上的硅为基材料,利用硅的各向异性腐蚀特性,通过氧化、光刻、腐蚀等微机械加工技术,制作出位置精确、镜面平整度高且与波导平面绝对垂直的全反射镜,并和用绝缘层硅材料制作出的单模脊形波导一起构成大角度、小尺寸、损耗低的弯曲波导。将此结构应用于无源光器件(如光耦合器、阵列波导光栅等等)中以实现结构紧凑、集成度高、性能好、工艺简单、可以批量生产的光通信器件。 | ||
申请公布号 | CN1312479A | 申请公布日期 | 2001.09.12 |
申请号 | CN01105879.X | 申请日期 | 2001.04.06 |
申请人 | 中国科学院上海冶金研究所 | 发明人 | 唐衍哲;王文辉;李铁;王跃林 |
分类号 | G02B6/42 | 主分类号 | G02B6/42 |
代理机构 | 上海华东专利事务所 | 代理人 | 潘振甦 |
主权项 | 1.一种镜面全反射型弯曲波导器件结构,其特征在于利用硅的各向异性腐蚀特性制作出位置精确、镜面平整度高并且与波导平面绝对垂直的全反射镜面,并和用绝缘层上的硅材料制作出的单模脊型波导一起构成弯曲波导。 | ||
地址 | 200050上海市长宁区长宁路865号 |