| 发明名称 | 表面检查方法及表面检查装置 | ||
| 摘要 | 一种表面检查方法，其是在具有受光部和受光偏振角变更部件的表面检查装置中进行表面检查的，该方法包括：利用受光偏振角变更部件改变受光偏振角和接受来自涂有标准粒子的基片表面的散射反射光的步骤；通过对以直方图得到的极小值、极大值进行明确分离、以得到异物散射受光输出和基片表面散射受光输出的比、即S/N比变为最大的步骤；在上述S/N中以极小值、极大值的比为0.7以上时判断该S/N比为最大的步骤；以及在受光输出的S/N比变为最大的状态下设定受光偏振角进行表面检查的步骤。本发明还提供一种表面检查装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1298036C | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
| 申请号 | CN03128610.0 | 申请日期 | 2003.03.27 |
| 申请人 | 株式会社拓普康;富士通株式会社 | 发明人 | 矶崎久;山崎伦启;吉川浩;神酒直人;前川博之;高桥直弘 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种表面检查方法，其是在具有受光部和受光偏振角变更部件的表面检查装置中进行表面检查的，该方法包括：利用上述受光偏振角变更部件改变受光偏振角和接受来自涂有标准粒子的基片表面的散射反射光的步骤；通过对以直方图得到的极小值、极大值进行明确分离、以得到异物散射受光输出和基片表面散射受光输出的比、即S/N比变为最大的步骤；在上述S/N中以极小值、极大值的比为0.7以上时判断该S/N比为最大的步骤；以及在受光输出的S/N比变为最大的状态下设定受光偏振角进行表面检查的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||