光存储系统、光存储介质及其使用

摘要

本申请描述了包含光存储介质(1)和光学头设备(6)的光存储系统。所述介质具有基底(2)、记录叠层(3)和光透射保护涂覆叠层(4和5)，所述保护涂覆叠层用于保护记录叠层不受光学头设备的碰撞。所述保护涂覆叠层至少包括以下涂层的多层(4和5)：第一层(5)，具有小于40nm的厚度以及低于1.5J/m²表面能量的表面；以及与第一层(5)相邻的第二层(4)，具有小于10GPa而大于0.001Gpa杨氏模量E。涂层(4和5)的这种组合对于光学头设备机械碰撞所引起的损环有很强的抵抗力。而不需要润滑剂。

主权项

1.一种光存储系统，包括光存储介质(1)和光学头设备(6)，所述介质包括一个基底(2)，并在所述基底的至少一侧面上沉积有：-记录叠层(3)，其具有至少一个通过聚焦辐射光束(7)记录的记录层，所述聚焦辐射光束(7)从光学头设备(6)发出并具有预定的波长以及预定的数值孔径，-光透射保护涂覆叠层(4，5)，其置于记录叠层(3)和光学头设备(6)之间，用于保护记录叠层(3)免受光学头设备(6)的碰撞，其特征在于所述保护涂覆叠层(4，5)至少包括以下层的多层(4，5)：-在离记录叠层最远处设置的第一层(5)，其具有小于40nm的厚度以及低于1.5J/m2表面能量的表面，-与第一层(5)相邻的第二层(4)，所述第二层(4)具有小于10GPa而大于0.001GPa的杨氏模量E。