发明名称 |
Radiation-curable composition and method of producing a solder mask. |
摘要 |
<p>Es wird ein durch Strahlung polymerisierbares Gemisch beschrieben, das eine polymerisierbare Verbindung, ein polymeres Bindemittel, das Einheiten von Methacrylsäure, einem Methacrylsäureester und einem Styrol, die letzteren in einem Anteil von 40 bis 65 Gew.-%, enthält, ein feinteiliges mineralisches Pigment auf Kieselsäure- bzw. Silikatbasis, einen Photopolymerisationsinitiator, eine Verbindung mit mindestens zwei Epoxygruppen im Molekül und einen thermischen Härter für Epoxygruppen enthält. Das Gemisch ist insbesondere zur Herstellung von Lötstopmasken geeignet und kann nach bildmäßigem Belichten und Entwickeln durch Erwärmen auf 80 bis 150 °C zu einer unter Lötbedingungen resistenten Schablone gehärtet werden.</p> |
申请公布号 |
EP0418733(A2) |
申请公布日期 |
1991.03.27 |
申请号 |
EP19900117636 |
申请日期 |
1990.09.13 |
申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
EMMELIUS, MICHAEL, DR.;HERWIG, WALTER, DR.;ERBES, KURT;DECKER, RUDOLF |
分类号 |
G03F7/033;C08F257/02;C08F283/10;C08G59/00;C08G59/18;C08G59/40;C08K3/36;G03F1/08;G03F7/004;G03F7/031;G03F7/032;G03F7/038;H05K3/06;H05K3/28 |
主分类号 |
G03F7/033 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|