| 发明名称 |
Pattern exposure method and pattern exposure apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0725243(D0) |
申请公布日期 |
2008.02.06 |
| 申请号 |
GB20070025243 |
申请日期 |
2005.03.10 |
| 申请人 |
HITACHI VIA MECHANICS, LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
G02B26/10;G02B26/12;G03B27/54;G03F7/20;G03F7/22 |
主分类号 |
G02B26/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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