摘要 |
Beschichtungsvorrichtung (100) zum Beschichten eines Substrats, die Beschichtungsvorrichtung aufweisend: • einen Träger (102); • mehrere Strukturelemente (104) über dem Träger (102), wobei die mehreren Strukturelemente (104) eingerichtet sind, Licht zumindest teilweise zu reflektieren; • eine erste Schichtstruktur (112) aufweisend eine erste Schicht (106) und eine zweite Schicht (108), wobei die erste Schicht (106) über dem Träger (102) und über den mehreren Strukturelementen (104) angeordnet ist, und wobei die zweite Schicht (108) über der ersten Schicht (106) angeordnet ist; • eine zweite Schichtstruktur (114) mindestens aufweisend eine dritte Schicht (110), wobei die dritte Schicht (110) über der ersten Schichtstruktur (112) angeordnet ist, wobei die dritte Schicht (110) eingerichtet ist, einfallendes Licht zu absorbieren; • und einen Bereich (116), der relativ zu der dritten Schicht (110) angeordnet ist derart, dass in dem Bereich (116) aufgenommenes Beschichtungsmaterial mittels der dritten Schicht (110) verdampft werden kann, • wobei die Wärmeleitfähigkeit der zweiten Schicht (108) geringer ist als die Wärmeleitfähigkeit der ersten Schicht (106) und wobei die erste Schicht (106) einen direkten Kontakt zu den mehreren Strukturelementen (104) aufweist und thermisch leitfähig ist zum Ableiten und Verteilen von Wärme, und wobei die über der ersten Schicht (106) angeordnete zweite Schicht (108) eingerichtet ist, die erste Schicht (106) von der zweiten Schichtstruktur (114) thermisch zu isolieren. |