发明名称 电化学机械沉积的方法和装置
摘要 本发明把电解液里的导体材料沉积到晶片的预定区域上。作出本申请所用的步骤包括当该晶片被置于阴极和阳极之间时,应用在晶片表面上的电解液,把导体材料镀到晶片的预定区域上,并且在电镀导体材料时,通过对其它区域进行机械抛光,阻止导体材料积累到不是预定区域的区域上。
申请公布号 CN1329681A 申请公布日期 2002.01.02
申请号 CN99814126.7 申请日期 1999.11.02
申请人 纳托尔公司 发明人 霍马尤恩·塔利亚
分类号 C25D5/02;C25D5/22;C25D5/06 主分类号 C25D5/02
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种将导体材料从电解液沉积到工件的一部分上的方法,该方法包括以下步骤:应用安排在工件表面上的电解液,把导体材料至少镀到该部分工件上,该工件被放置在阳极的附近;以及在执行导体材料电镀步骤时,通过对其它区域进行抛光,把导体材料到不同于该部分的其它区域的积累减至最小。
地址 美国加利福尼亚