| 摘要 |
휘도 변동에 의한 윤곽점의 오차는 일정량의 오프셋 가산 등의 단순한 방법에 의해 보정할 수는 없다. 그러나, 레지스트 패턴으로 대표되는 바와 같이 미세화가 진행된 최근에는, 기준이 되는 영역을 적절하게 정하는 것이 곤란해졌다. 하전 입자선 장치에 의해 취득된 레지스트 패턴의 화상으로부터, 휘도 변동의 영향을 고려해서 레지스트 패턴의 윤곽을 추출한다. 즉, 윤곽을 구성하는 에지 점의 근방의 휘도 프로파일을 복수 취득하고, 복수의 상기 휘도 프로파일에 의거하여, 특정 에지의 근방에 있어서의 휘도 프로파일의 형상의 평가값을 구하고, 이 평가값에 의거하여, 특정 에지점의 윤곽을 보정한다. |
