| 摘要 |
<p>Das Plasmaspritzgerät dient zum Versprühen von pulverförmigem Material und umfasst ein indirektes Plasmatron, welches eine Kathodenanordnung, eine von der Kathodenanordnung (1) distanzierte, ringförmige Anode (3) und einen von der Kathodenanordnung zur Anode sich erstreckenden Plasmakanal (4) aufweist. Die Kathodenanordnung weist mehrere, im Kreis um die Längsachse (2) des Plasmakanals (4) verteilt angeordnete Kathoden (1, 20) auf. Der Plasmakanal (4) ist durch den Anodenring (3) und eine Anzahl ringförmiger, voneinander elektrisch isolierter Neutroden (6 bis 12) gebildet. Am anodenseitigen Ende des Plasmatrons ist für die seitliche Zufuhr des Spritzmaterials (SM) in den freien Plasmastrahl (PS) eine auf das anodenseitige Ende (17) des Plasmatrons aufgesetzten Ringanordnung (51) vorgesehen, welche wenigstens einen von aussen nach innen führenden Kanal (52) aufweist, zu dessen äusserem Ende eine Anschlussleitung (53) führt.</p> |
