| 发明名称 | 介电层形成组合物和生片以及其上形成介电层的基底及其制备方法 | ||
| 摘要 | 提供一种介电层形成组合物，生片，其上形成有介电层的基底，以及制备该基底的方法，所述介电层形成组合物为均质的并处于稳定的分散状态，且当涂布到基底上并烘烤时能形成没有凹痕的均匀且高质量的介电层。所述介电层形成组合物包括玻璃组分、可热分解的粘合剂、分散剂和溶剂，其中该分散剂为选自以下的至少两种分散剂：阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂、高分子多羧酸表面活性剂、聚醚酯酸胺盐和硅烷偶联剂。通过将所述介电层形成组合物流延成薄膜获得生片，且通过采用该生片形成介电层能获得所述基底。 | ||
| 申请公布号 | CN101038798A | 申请公布日期 | 2007.09.19 |
| 申请号 | CN200710085782.3 | 申请日期 | 2007.03.14 |
| 申请人 | 琳得科株式会社 | 发明人 | 奥田卓也;福田达夫;村山健一 |
| 分类号 | H01B3/00(2006.01);H01B3/08(2006.01);H01J17/02(2006.01);H01J9/00(2006.01) | 主分类号 | H01B3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种介电层形成组合物，其包括玻璃组分、可热分解的粘合剂、分散剂和溶剂，其中该分散剂为选自以下的至少两种分散剂：阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂、高分子多羧酸表面活性剂、聚醚酯酸胺盐和硅烷偶联剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||