发明名称 |
EUV投影リソグラフィのための照明系及び照明光学ユニット |
摘要 |
EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、照明光を物体視野に向けて案内するように機能する。照明光学ユニットの視野ファセットミラーは、少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換えることができる複数の個別ミラーを有する。照明光学ユニットの瞳ファセットミラーは、複数の静止瞳ファセットを有し、照明光のビーム経路内で視野ファセットミラーの下流に配置される。瞳ファセットは、群ミラー照明チャネルを通じた物体視野内への視野ファセットミラーの個別ミラーの群の少なくとも区画的な重ね合わせ結像のために機能する。個別ミラーの少なくとも一部は、視野ファセットミラーの変更セクション(36)に配置される。変更セクション(36)内の個別ミラーは、個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセットを通して物体視野に結像される2つの異なる個別ミラー群(25a,25b)に割り当てることができる。変更セクション(36)は、物体視野上に結像されて物体変位方向(y)に対して垂直な物体視野の広がりの最大で半分に達する広がり(x1/3)を物体変位方向(y)と垂直に有する。視野ファセットミラーのそのような設計は、予め定められた照明パラメータを同じく予め定められた許容範囲内で遵守するために使用することができる。【選択図】図3 |
申请公布号 |
JP2016533513(A) |
申请公布日期 |
2016.10.27 |
申请号 |
JP20160515545 |
申请日期 |
2014.08.25 |
申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
エンドレス マルティン |
分类号 |
G03F7/20;G02B13/24;G02B17/06 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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