发明名称 DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE
摘要 본 발명은, 기판의 건조 시에 표면 상의 액체를 순식간에 건조시킬 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 기판 처리 장치는, 기판(W)의 표면을 건조하는 가열 건조 수단(103)을 가지고 구성되는 기판 처리 장치(10)로서, 상기 가열 건조 수단(103)이 기판(W)의 연직 하향으로 배치된 표면을 하측으로부터 가열하며, 가열 작용으로 기판(W)의 표면에 생성된 휘발성 용매의 액적을 중력에 의해 낙하 제거시켜, 기판의 표면을 건조하는 것이다.
申请公布号 KR101688689(B1) 申请公布日期 2016.12.21
申请号 KR20140031105 申请日期 2014.03.17
申请人 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 发明人 하야시 고노스케;후루야 마사아키;오오타가키 다카시;나가시마 유지;기나세 아츠시;아베 마사히로
分类号 H01L21/302;H01L21/324 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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