| 摘要 |
本発明は、パターン硬化被膜の密着性印刷パターンの転写性に優れたインキ用に好適なポリシロキサン組成物、該インキ組成物から形成された硬化被膜、および電子または光学デバイスを提供することを課題とする。（Ａ）一般式（１）〜（３）から選ばれる１種以上のシラン化合物を含むシラン化合物を加水分解および縮合させることにより得られるポリシロキサン、および（ｂ）溶剤を含むことを特徴とするインキに好適なシロキサン組成物。Ｒ０２−ｎＲ１ｎＳｉ（ＯＲ９）2（１）（Ｒ０は水素、アルキル基、アルケニル基、フェニル基またはそれらの置換体を表す。Ｒ１は多環式芳香族基またはその置換体を表す。Ｒ９は水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。ｎは１または２である。ｎが２の場合、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。）Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ１０）３（２）（Ｒ２は多環式芳香族基またはその置換体を表す。Ｒ１０は水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。）（Ｒ１１Ｏ）ｍＲ４３−ｍＳｉ−Ｒ３−Ｓｉ（ＯＲ１２）ｌＲ５３−ｌ（３）（Ｒ３は２価の多環式芳香族基またはその置換体を表す。Ｒ４およびＲ５は、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはそれらの置換体を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ１１およびＲ１２は水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｍおよびｌはそれぞれ独立に１〜３の整数である。） |
