发明名称 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 본 발명은 배리어 시스템(3)을 포함하는 리소그래피 장치, 및 설명된 바와 같은 리소그래피 장치 중 어느 것을 이용하는 디바이스 제조 방법을 제공한다. 배리어 시스템은 배리어(4) 내에 가스의 보호된 부피를 유지하는 데 사용된다. 보호된 부피는 리소그래피 장치의 상이한 구성요소들이 서로에 대해 이동할 때 유지될 수 있다. 배리어 시스템은 리소그래피 장치 내의 상이한 위치들에 사용될 수 있다. 배리어의 지오메트리는, 특히 높은 속력에서, 보호된 부피가 얼마나 효율적으로 유지되는지에 영향을 준다. 본 발명의 지오메트리는 배리어 외부로부터 보호된 부피에 들어가는 주위 가스의 양을 감소시킨다.
申请公布号 KR20160121574(A) 申请公布日期 2016.10.19
申请号 KR20167025720 申请日期 2015.01.20
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 NAKIBOGLU GUENES;VAN BAREN MARTIJN;VAN BOXTEL FRANK JOHANNES JACOBUS;CUYPERS KOEN;GOSEN JEROEN GERARD;VAN BOKHOVEN LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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