| 发明名称 |
一种液相基底沉积金属薄膜分离装置 |
| 摘要 |
本发明属于磁控溅射技术，具体涉及一种液相基底沉积金属薄膜分离装置，其特征在于：顶盖方便打开和密封开口，底座密封圆桶底部，带孔隔板固定在圆桶中间位置，带孔隔板中间涂二甲基硅油薄层，金属薄膜沉积在涂二甲基硅油薄层上方。本发明有益效果：通过本装置，磁控溅射后形成的金属膜可以在真空环境下获得，不会氧化；恒温的环境减少硅油内应力对金属薄膜的作用，不会出现金属薄膜褶皱。 |
| 申请公布号 |
CN105671510A |
申请公布日期 |
2016.06.15 |
| 申请号 |
CN201610217374.8 |
申请日期 |
2016.04.07 |
| 申请人 |
乔宪武 |
发明人 |
乔宪武 |
| 分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种液相基底沉积金属薄膜分离装置，其特征在于：顶盖(1)方便打开和密封开口，底座(7)密封圆桶(5)底部，带孔隔板(4)固定在圆桶(5)中间位置，带孔隔板(4)中间涂二甲基硅油(3)薄层，金属薄膜(2)沉积在涂二甲基硅油(3)薄层上方，有机溶剂(6)存放于底座(7)和圆桶(5)形成的存储空间，有机溶剂(6)液面低于带孔隔板(4)位置。 |
| 地址 |
310018 浙江省杭州市学源街258号中国计量学院 |
